Pada zaman berteknologi tinggi kita, bahan tahan api, tahan haba, anti-karat dan tahan sinaran menjadi semakin biasa, yang memerlukan teknik khas untuk mengimpal. Seperti kimpalan rasuk elektron, di mana suhu zon kerja aktif mencapai seribu kali lebih tinggi daripada kaedah tradisional. Suhu ultra tinggi dalam jenis kimpalan ini dicapai disebabkan oleh foton atau elektron yang bergerak dalam kebuk vakum pada kelajuan kira-kira 165,000 km / s. Apabila mengebom logam pada kelajuan yang luar biasa, tenaga kinetik zarah asas ditukar kepada haba, yang mencairkan logam.
Kimpalan rasuk elektron dijalankan di dalam ruang khas, dari mana udara dipam keluar sebelum ini. Ruang tanpa udara dicipta supaya elektron tidak membazir tenaga mereka pada pengionan campuran gas dan untuk mendapatkan jahitan logam yang ideal tanpa kemasukan asing. Persediaan rasuk katod, sebagai ruang vakum ini dipanggil, dilengkapi dengan kanta magnet khas yang direka bentuk untuk membentuk aliran elektron terarah dan mengawalnya dengan berkesan. Ia juga mempunyai palka pemuatan untuk bahagian suapan untuk dikimpal.
Kimpalan rasuk elektron dilakukan dengan arus ulang-alik voltan rendah. Ia mengalir melalui elemen pemfokusan khas (kanta), di mana katod dan anod terletak, dan, dengan itu, aliran elektron dengan ciri-ciri tertentu dicipta. Dalam pemasangan kuasa rendah, gegelung tungsten atau tantalum digunakan sebagai katod. Dan jika proses teknologi dan sifat individu bahan yang dikimpal memerlukan lebih kuasa, maka katod yang diperbuat daripada cermet atau lanthanum hexaboride, yang mempunyai peningkatan keupayaan untuk memancarkan elektron bebas, sudah digunakan.
Bergantung pada ciri reka bentuk pemasangan, kimpalan rasuk elektron boleh dilakukan dengan menggerakkan bahan yang dikimpal berserenjang dengan rasuk tetap, atau sebaliknya, rasuk boleh bergerak relatif kepada bahagian tetap. Selain itu, reka bentuk beberapa pemasangan menyediakan kehadiran peranti pesongan khas, yang memberikan lebih banyak peluang untuk mendapatkan jahitan bergambar.
Kimpalan jenis ini digunakan secara meluas dalam mengimpal keluli aloi berkekuatan tinggi dan aloi berasaskan titanium, serta logam seperti molibdenum, tantalum, niobium,tungsten, zirkonium, berilium. Untuk pemesinan ketepatan dan kimpalan pelbagai bahagian mikro. Ia digunakan dalam industri seperti sains roket, kuasa nuklear, instrumentasi ketepatan, mikroelektronik dan banyak lagi.
Seiring dengan teknologi pancaran elektron, kimpalan laser juga meluas. Peralatan untuk jenis kimpalan ini ialah penjana laser optik, yang merupakan sumber sinaran koheren ultra-moden. Perbezaan asas antara kimpalan laser dan kaedah pancaran elektron ialah ia tidak memerlukan ruang vakum. Proses kimpalan menggunakan teknologi laser dijalankan dalam persekitaran udara atau dalam keadaan tepu ruang dengan gas pelindung khas - karbon dioksida, argon dan helium.
